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硅片传输单元洁净系统的研制

Development of Wafer Handling Cell Clean System

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【作者】 丛明杜宇沈宝宏

【Author】 CONG Ming,DU Yu,SHEN Bao-hong (Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education, Dalian University of Technology, Dalian 116023, China)

【机构】 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 辽宁大连116023辽宁大连116023

【摘要】 在集成电路制造的硅片传输过程中,硅片传输机器人等机械设备的运动会产生尘埃粒子污染硅片。为解决这一问题,设计并研制了硅片传输单元的洁净系统,分析了该洁净系统的设计方案和结构设计,计算了它的送回风管直径,并用计算流体力学的方法,对洁净系统内部的硅片传输机器人区域进行了流场的模拟分析。该洁净系统已达到设计要求。

【Abstract】 Airborne particles may be created by the moving of mechanical equipment such as wafer handling robot in the process of wafer handling of the IC manufacture. To solve this problem, the clean system of the wafer handling cell was designed and developed. Its structure design and parameter calculations were carried out. And the airflow pattern was simulated using a computa- tional fluid dynamics (CFD) method. The performance indices were implemented satisfactorily.

【基金】 国家863高技术发展计划资助项目(2004AA420040);大连市科技计划项目(2004A1GX086)
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,2006年09期
  • 【分类号】TN405.97
  • 【被引频次】9
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